Pulsed And Pulsed Bias Sputtering - Edward V. Barnat Toh-Ming Lu Kartoniert (TB)
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Diffusion Barrier Stack - 5 nm -3 nm -2 nm :. . . -. . . . : . . O. 21-lm Figure 2: Schematic representing a cross-sectional view of the topography that is encountered in the processing of integrated... Weiterlesen
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9781461350637
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